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                                                        MaskTrack Pro 掩膜版清洗系統(tǒng)
                                                    
            
                        
            
                            
            掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。masktrack pro 掩膜清洗處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) 193i 1x half-pitch dpt、紫外光刻 (euvl) 和納米壓印光刻 (nil)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。
            
                            更新時(shí)間:2024-08-13
                        
            
                        
                    
            
                                    
            
                            
            
            
        
            
        
            
            
            
            
                
            
                    
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