產(chǎn)品性能:
第六代 Phenom Pure 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍,用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。Pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn),適用于傳統(tǒng)大電鏡待測(cè)樣品的快速篩選,也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無(wú)法滿(mǎn)足需求的客戶(hù)。
Phenom Pure 經(jīng)濟(jì)型標(biāo)準(zhǔn)版
產(chǎn)品參數(shù)
電子顯微鏡:175,000 倍
探測(cè)器:高靈敏度四分割背散射電子探測(cè)器
燈絲材料:1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
分辨率:優(yōu)于 10 nm
放置環(huán)境:采用業(yè)防震設(shè)計(jì),可擺放于普通實(shí)驗(yàn)室或辦公室、廠房
加速電壓:5kV 和 10kV
抽真空時(shí)間:小于 15
復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific),負(fù)責(zé)荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡在中國(guó)市場(chǎng)的推廣和銷(xiāo)售,提供業(yè)的技術(shù)支持和測(cè)試服務(wù),飛納中國(guó)擁有業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì),提供優(yōu)化的解決方案;飛納中國(guó)提出飛納學(xué)校 (Phenom University)的概念,為用戶(hù)提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn),在上海、北京、廣州設(shè)立了測(cè)試中心和售后服務(wù)中心,目飛納在中國(guó)已經(jīng)擁有超過(guò) 1500 名用戶(hù)。
| Delong America Inc. 榮譽(yù)出品 • 世界唯一的小型臺(tái)式透射電子顯微鏡(TEM) • 世界唯一的多用途臺(tái)式電子顯微鏡 • 透射電鏡(TEM)、電子衍射(ED)、掃描電鏡(SEM)、掃描透射電鏡(STEM)四種成像模式 • 分辨率:2nm(TEM);3nm(SEM) • Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)焊吡炼取⒏邔?duì)比度 • 觀察生物樣品無(wú)需染色 • 體積僅為傳統(tǒng)透射電鏡1/10,價(jià)格僅為其1/5 |
臺(tái)式設(shè)計(jì):體積小巧,靈活性高,價(jià)格低 傳統(tǒng)透射電子顯微鏡體積龐大,對(duì)放置環(huán)境有著嚴(yán)格的要求,并且需要制冷機(jī)等外置設(shè)備。通常會(huì)占據(jù)整間實(shí)驗(yàn)室。LVEM5從根本上區(qū)別于傳統(tǒng)電鏡,尺寸較傳統(tǒng)電鏡縮小了90%,對(duì)放置環(huán)境無(wú)嚴(yán)格要求,無(wú)需任何外置冷卻設(shè)備,可以安裝用戶(hù)所需的任意實(shí)驗(yàn)室或辦公室桌面。價(jià)格僅為傳統(tǒng)電鏡的1/5,是目前性?xún)r(jià)比最高的電子顯微鏡。 | |
Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)焊吡炼?span>/高對(duì)比度 電子槍類(lèi)型是決定電鏡性能的重要參數(shù)。LVEM5采用特殊設(shè)計(jì)的倒置肖特基(Schottky)場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)峁└吡炼雀呦喔傻碾娮邮k娮訕屖褂脡勖蛇_(dá)2000小時(shí)以上。 傳統(tǒng)TEM多采用100kV以上電子束加速電壓,高能電子束不能區(qū)分輕材料中相近的密度和原子序數(shù),對(duì)于輕元素樣品(C、N、O樣品,生物樣品)難以獲得好的對(duì)比度,影響圖像質(zhì)量。 LVEM5采用5kV低電壓設(shè)計(jì),低電壓電子束對(duì)密度和原子序數(shù)有很高的靈敏度,對(duì)于小到0.005 g/cm3的密度差別仍能得到很好的圖像對(duì)比度。例如,對(duì)20nm碳膜樣品,5KV電壓下比100KV電壓下對(duì)比度提高10倍以上。而LVEM5的空間分辨率在低電壓下仍能達(dá)到2nm。 | |
未經(jīng)染色的老鼠心臟切片在80kV透射電鏡下得到的圖像,與LVEM5下得到的圖像。 LVEM5采用5kV低加速電壓,圖像具有更好的對(duì)比度 |
TEM-STEM-ED-SEM 四種成像模式 TEM模式 LVEM5是世界上唯一的臺(tái)式透射電子顯微鏡,同時(shí)也是唯一的低加速電壓(5kV)透射電鏡。同傳統(tǒng)透射電鏡(80-200kV)相比,增加了電子束與樣品的相互作用,從而提高了圖像對(duì)比度 ? 提高了圖像對(duì)比度 ? 無(wú)需重金屬染色即可觀察輕元素樣品(如生物樣品) ? 避免染色造成的假象,觀察樣品真實(shí)結(jié)構(gòu) 分辨率2nm,放大倍數(shù) 5000-202,000x,圖像采集:2048 x 2048SEM模式 掃描電鏡(SEM)模式可用于觀察任意固體樣品。在SEM模式下,LVEM5采用4分割背散射探測(cè)器,提供多個(gè)觀測(cè)角度。 普通掃描電鏡在觀察不導(dǎo)電樣品時(shí),需要對(duì)樣品進(jìn)行噴金、噴碳處理,以增加樣品導(dǎo)電性。LVEM5的另一優(yōu)點(diǎn)在于,無(wú)需噴金可直接觀測(cè)不導(dǎo)電樣品。 分辨率3nm,放大倍數(shù) 640x - 1,000,000x,圖像采集:2048 x 2048 STEM模式 在掃描透射電子顯微(STEM)模式下,電子束被聚焦到很小直徑,在樣品上進(jìn)行掃描?捎糜谟^察厚度較厚的樣品或染色樣品 ED模式 電子衍射(ED)可用于確定樣品的晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶度、相組成. | |
TEM:細(xì)胞器 STEM:聚乙烯單晶 | ED:ZnO單晶 SEM:水凝膠 |
|
| |
|
用戶(hù)列表 LVEM5在全球范圍已擁有麻省理工、加州大學(xué)、喬治亞理工、慕尼黑大學(xué)、曼徹斯特大學(xué)等50多個(gè)用戶(hù)。優(yōu)異的性能為LVEM5贏得了用戶(hù)的一片贊譽(yù)。 更多用戶(hù)列表請(qǐng)點(diǎn)擊 |
技術(shù)參數(shù)表 |
日本Hitachi在電子顯微鏡領(lǐng)域一向以引領(lǐng)技術(shù)潮流著稱(chēng):1972年發(fā)布全球第一臺(tái)場(chǎng)透射電子微鏡,經(jīng)過(guò)30多年的發(fā)展,日立開(kāi)發(fā)、應(yīng)用了大量的新技術(shù),例如電子槍多重偏壓、浸沒(méi)式(In-lens)、半浸沒(méi)式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測(cè)器,電子減速功能等等。推出了一系列性能優(yōu)異、應(yīng)用廣泛的新型號(hào)電鏡,受到了用戶(hù)的一致好評(píng)。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外,在北美和歐洲也擁有研究開(kāi)發(fā)中心,在全球六十多個(gè)國(guó)家經(jīng)營(yíng)銷(xiāo)售、技術(shù)支持和提供維修服務(wù)。 Hitachi公司將納米尺度呈獻(xiàn)給研究人員和生產(chǎn)廠商。 在成功推出S-3000系列后,推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM,它集成了Hitachi多年開(kāi)發(fā)的新技術(shù),例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導(dǎo)體式背散射探頭、物鏡光闌自動(dòng)合軸等等,極大地提高設(shè)備的性能和應(yīng)用擴(kuò)展能力、使操作和維護(hù)更加簡(jiǎn)易。 S-4800屬于場(chǎng)發(fā)射SEM,它集成S-4700和S-5200型的優(yōu)點(diǎn),采用新型E x B式探測(cè)器和電子束減速功能提高了圖像質(zhì)量,特別是低電壓的圖像分辨率;新型的透鏡系統(tǒng),提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。 作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器,我們供應(yīng)日本Horiba公司或美國(guó)EDAX公司的產(chǎn)品。 S-4800場(chǎng)發(fā)射SEM系統(tǒng): 1. 分辨率:二次電子(SE)成像:高真空模式:1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率:低倍模式20 ~2,000倍;高倍模式100 ~800,800倍 3. 電子槍?zhuān)豪潢帢O場(chǎng)發(fā)射電子源,束流1pA–2nA;加速電壓:0.5~30 kV;3級(jí)電磁透射會(huì)聚系統(tǒng) 4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm,同心樣品臺(tái),四軸自動(dòng),可安裝EDS、冷卻臺(tái)附件 5. 移動(dòng)最大范圍:X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°;傾斜T:范圍不小于-5°~70°(手動(dòng)) 6. 探測(cè)器:二次電子檢測(cè)器、固體背散射電子檢測(cè)器;樣品室 IR-CCD 相機(jī) 7. 圖像掃描:不低于5120×3840像素;圖像顯示1280×960像素
緊湊型、模塊化和智能化CCU-010 HV_CT-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備,使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì),變換鍍膜頭非常簡(jiǎn)單。在鍍膜之和/或之后,可以進(jìn)行等離子處理(可選項(xiàng))。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)✬高性能蒸發(fā)鍍碳和可選等離子處理✬有的自動(dòng)碳源卷送設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜,無(wú)需用戶(hù)干預(yù)✬獨(dú)特的即插即用蒸碳鍍膜模塊✬一流的真空性能和快速抽真空✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置,可兼容不同尺寸的樣品
巧妙的真空設(shè)計(jì)CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了高的SEM,TEM和薄膜應(yīng)用。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
CT-010碳蒸發(fā)模塊緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹(shù)立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體后,即可立即使用,既適合EDS噴碳應(yīng)用,更適合SEM、TEM和任何需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場(chǎng)合。CT-010使用歐洲有的、獨(dú)特且技術(shù)先的碳繩卷軸系統(tǒng),可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜,而無(wú)需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后,新的一段會(huì)自動(dòng)進(jìn),用過(guò)的碳繩會(huì)掉落到方便的收集盤(pán)中。除了易于使用外,自動(dòng)卷軸系統(tǒng)還允許在一個(gè)鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全,從對(duì)溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應(yīng)用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動(dòng)啟動(dòng)擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度,并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝,通過(guò)空氣、氬氣或其它用氣體進(jìn)行表面處理,例如,使碳膜親水。本機(jī)可按順序進(jìn)行碳鍍膜和輝光放電處理,無(wú)需“破”真空或更換處理頭,大地簡(jiǎn)化了操作過(guò)程。本單元安裝到CT-010,與所有樣品臺(tái)兼容。
ET-010等離子刻蝕單元在對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜之或鍍膜之后,可選對(duì)樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。使用該附件,可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜清潔樣品,增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進(jìn)行等離子處理,從而對(duì)碳膜表面進(jìn)行改性。
Coating-LAB軟件(可選)使用基于PC的Coating-LAB軟件,可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚,鍍膜速率為實(shí)時(shí)曲線。便捷的軟件升和參數(shù)設(shè)置讓此智能工具更為完美。
RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件(可選)◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件◎創(chuàng)建和調(diào)用配方◎?qū)崟r(shí)圖表,包含導(dǎo)出功能(Excel、png等)◎自動(dòng)連接到設(shè)備
可選多種樣品臺(tái)CCU-010系列噴金噴碳儀提供一個(gè)直徑不小于60mm的樣品臺(tái),該樣品臺(tái)插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上。可選其它用的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、行星臺(tái)、載玻片樣品臺(tái)等。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統(tǒng)為滿(mǎn)足電鏡樣品制備域及材料科學(xué)薄膜應(yīng)用的高要求而設(shè)計(jì)。CCU-010 HV 高真空鍍碳儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計(jì),可在超高分辨率應(yīng)用中提供出色的結(jié)果。該設(shè)備是全自動(dòng)抽真空和全自動(dòng)操作,采用TFT 觸摸屏,配方可編程,保證結(jié)果可重復(fù)。CCU-010 HV 標(biāo)配抽真空系統(tǒng)完全無(wú)油,含高性能渦輪泵和隔膜泵,均位于內(nèi)部,外部沒(méi)有笨重的旋轉(zhuǎn)泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無(wú)油抽真空系統(tǒng)可將鍍層中的污染或缺陷降至低。關(guān)閉時(shí),該設(shè)備可以保持在真空下,這有效地保護(hù)了系統(tǒng)免受灰塵和濕氣的影響,并為高質(zhì)量的鍍層創(chuàng)造了快速抽真空和有利的真空條件。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本:CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀;CCU-010 HV高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀;CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀;CCU-010 HV高真空手套箱用鍍膜儀
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)了兩大技術(shù)性突破:一是獨(dú)家采用自動(dòng)碳纖維卷繞系統(tǒng),在每次蒸發(fā)后自動(dòng)推進(jìn)碳纖維,在不破真空更換碳源的情況下可進(jìn)行數(shù)十次的鍍碳運(yùn)行,比市場(chǎng)上常見(jiàn)的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節(jié)省大量的人工操作,既適用于大多數(shù)常規(guī)鍍碳應(yīng)用,也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應(yīng)用。二是將“鍍膜對(duì)樣品表面進(jìn)行等離子清潔(增加附著力)+鍍膜+鍍膜后對(duì)膜層表面進(jìn)行改性(比如:親水化)或刻蝕”全流程集于同一臺(tái)儀器同一次真空下完成,大大提高了鍍膜質(zhì)量,拓寬了應(yīng)用范圍。另外,瑞士制造,是“精密”和“高品質(zhì)”的代名詞;瑞士原廠貨源,覃思本地服務(wù),客戶(hù)買(mǎi)得放心、用得省心!
FERA3 XMU/XMH是TESCAN最新推出的一款超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡,以高品質(zhì),完全計(jì)算機(jī)控制,用戶(hù)友好界面為基礎(chǔ)的系列產(chǎn)品。這款聚焦離子束掃描電鏡的FIB部分處理速度是普通FIB的50倍,而且具有使用方便,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,分析高效為特點(diǎn)的獨(dú)創(chuàng)設(shè)計(jì)。該型號(hào)樣品臺(tái)行程大,可承受最大樣品重量甚至可達(dá)10Kg,是現(xiàn)有樣品臺(tái)可載重最大的掃描電子顯微鏡。使用于航空航天,汽車(chē)配件,發(fā)動(dòng)機(jī)等事業(yè)單位和研究單位,其超大的樣品室和載重可為您帶來(lái)無(wú)可比擬的便捷,使得對(duì)一些不方便進(jìn)行切割等處理的樣品的觀察成為可能。
超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡,掃描電鏡分析,透射掃描電鏡超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡主要特點(diǎn):
國(guó)內(nèi)首家使用中文操作界面的電鏡廠商 1.系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了電子束和離子束的共聚焦,有氣體注入系統(tǒng); 2.可以提供五種觀察影像模式:分辨率模式;景深模式;視野模式;大視野模式,channeling模式,可以非常方便的尋找樣品位置; 3.獨(dú)創(chuàng)的低真空二次電子探測(cè)器(LVSTD). 4.紅外線樣品室內(nèi)攝像裝置,可以在測(cè)量同時(shí)觀測(cè)樣品; 5.真空系統(tǒng)采用一臺(tái)機(jī)械泵和一臺(tái)分子泵,F(xiàn)IB電子槍部分使用離子泵,抽真空速度快,在更換樣品后,三分鐘內(nèi)就可達(dá)到待測(cè)狀態(tài);并且不需要使用冷卻水冷卻. 6.采用主動(dòng)式電磁減震系統(tǒng),對(duì)環(huán)境的要求更寬泛 7.先進(jìn)的軟件系統(tǒng),在數(shù)據(jù)儲(chǔ)存數(shù)據(jù)記錄數(shù)據(jù)打印等方面具有多種創(chuàng)新功能. 8.完善的自動(dòng)功能,能幫助您更快更好的獲取圖片 9.12個(gè)以上外擴(kuò)展接口,可安裝更多的附件10.可進(jìn)行遠(yuǎn)程控制 超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡,掃描電鏡分析,透射掃描電鏡
產(chǎn)品說(shuō)明、技術(shù)參數(shù)及配置 | |||
|
詳情請(qǐng)登入:www.biovol.net
透射掃描電鏡檢測(cè)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)技術(shù)服務(wù)介紹產(chǎn)品資料
透射電子顯微鏡在材料科學(xué)、生物學(xué)上應(yīng)用較多。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會(huì)影響到后的成像質(zhì)量,必須制備更薄的超薄切片,通常為50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時(shí)的樣品需要處理得很薄。常用的方法:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對(duì)于液體樣品,通常是掛預(yù)處理過(guò)的銅網(wǎng)上進(jìn)行觀察。
掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌,成像原理如圖所示。在掃描電鏡中,電子槍發(fā)射出來(lái)的電子束,經(jīng)三個(gè)電磁透鏡聚焦后,成直徑為幾個(gè)納米的電子束。末透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下,激發(fā)出各種信號(hào),信號(hào)的強(qiáng)度取決于試樣表面的形貌、受激區(qū)域的成分和晶體取向。設(shè)在試樣附近的探測(cè)器把激發(fā)出的電子信號(hào)接受下來(lái),經(jīng)信號(hào)處理放大系統(tǒng)后,輸送到顯象管柵以調(diào)制顯象管的亮度。由于顯象管中的電子束和鏡筒中的電子束是同步掃描的,顯象管上各點(diǎn)的亮度是由試樣上各點(diǎn)激發(fā)出的電子信號(hào)強(qiáng)度來(lái)調(diào)制的,即由試樣表面上任點(diǎn)所收集來(lái)的信號(hào)強(qiáng)度與顯象管屏上相應(yīng)點(diǎn)亮度之間是對(duì)應(yīng)的。因此,試樣各點(diǎn)狀態(tài)不同,顯象管各點(diǎn)相應(yīng)的亮度也必不同,由此得到的象定是試樣狀態(tài)的反映。放置在試樣斜上方的波譜儀和能譜儀是用來(lái)收集X射線,借以實(shí)現(xiàn)X射線微區(qū)成分分析的。值得強(qiáng)調(diào)的是,入射電子束在試樣表面上是逐點(diǎn)掃描的,象是逐點(diǎn)記錄的,因此試樣各點(diǎn)所激發(fā)出來(lái)的各種信號(hào)都可選錄出來(lái),并可同時(shí)在相鄰的幾個(gè)顯象管上顯示出來(lái),這給試樣綜合分析帶來(lái)大的方便。
技術(shù)服務(wù)內(nèi)容參數(shù)規(guī)格
編號(hào) | 項(xiàng)目 | 價(jià)格 | 備注 |
1 | 掃描電鏡觀察 | 詢(xún)價(jià) | 我方提供試劑,每樣拍5-8張圖片 |
2 | 透射電鏡觀察細(xì)胞和組織(無(wú)特殊定位) | 詢(xún)價(jià) | 我方提供試劑,每樣拍5-8張圖片 |
3 | 電鏡觀察植物 | 詢(xún)價(jià) | 我方提供試劑,每樣拍5-8張圖片 |
4 | 電鏡觀察細(xì)菌 | 詢(xún)價(jià) | 我方提供試劑,每樣拍5-8張圖片 |
透射掃描電鏡檢測(cè)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)客戶(hù)須知注意事項(xiàng)
電鏡標(biāo)本要求
1)透射電鏡需客戶(hù)提供1mm3 左右的組織塊,取材部位要求盡量精準(zhǔn)。
2)掃描電鏡,需客戶(hù)提供10*10*5mm大小的組織塊。
3)如為細(xì)胞,細(xì)胞數(shù)需≥106
實(shí)驗(yàn)周期
20個(gè)工作日內(nèi)(具體實(shí)驗(yàn)周期視實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方案而異)
公司介紹創(chuàng)凌生物直致力于生命醫(yī)學(xué)和生物技術(shù)域的積累與沉淀,目創(chuàng)凌生物技術(shù)研發(fā)團(tuán)隊(duì)50余人,配備了先進(jìn)的分析和檢測(cè)設(shè)備,通過(guò)自主創(chuàng)新以及與國(guó)內(nèi)外的科研單位合作研發(fā),不斷突破新技術(shù),質(zhì)量成熟,各類(lèi)產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)贏得了眾多科研機(jī)構(gòu)的認(rèn)可。
產(chǎn)品介紹:
日立全新一代熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導(dǎo)體行業(yè)掃描電鏡CD-SEM高穩(wěn)定性和易操作的特點(diǎn),不僅具有強(qiáng)大的觀察分析能力,同時(shí)具有全新的操作體驗(yàn)。SU5000既滿(mǎn)足了專(zhuān)業(yè)電鏡操作者對(duì)高分辨觀察和分析的需求,也滿(mǎn)足了電鏡初學(xué)者對(duì)高質(zhì)量圖片的需求,是一臺(tái)操作簡(jiǎn)便且功能強(qiáng)大的掃描電鏡。
胡先生 158--6255 / QQ: 122-600-6936
主要特點(diǎn):
? 高穩(wěn)定性熱場(chǎng)發(fā)射電子槍
? 全新的EM Wizard軟件,無(wú)需設(shè)置參數(shù)即可獲得高質(zhì)量圖片
? 高分辨率和強(qiáng)大的分析能力
? 樣品適用性強(qiáng):不導(dǎo)電樣品直接觀察(低真空功能,10-300Pa)
? 全新的multi-finder功能,方便快捷的尋找樣品
? 附件功能強(qiáng)大:拉伸臺(tái),冷熱臺(tái),電子束曝光,紅外CCD,離子束清潔系統(tǒng)等。
樣品臺(tái)溫度控制范圍 | +70℃ to -30℃,分辨率 +/- 1℃ |
典型的操作溫度 | 3 分鐘內(nèi)從室溫+25℃ 降至-25℃ |
溫度顯示精度 | 0.1℃ |
溫度穩(wěn)定度 | 0.2℃ |
控制單元體積 | 137mm H x 235mm W x 260mm |
樣品尺寸 | 正常樣品大小, 最大直徑為 25mm |
X,Y 正常物臺(tái) | 保持移動(dòng)功能傾斜:X射線分析正常移動(dòng)(典型為45 |
工作距離 | +/- 25mm |
旋轉(zhuǎn) | 大于180° |
電源 | 230V單相,5 Amp max |
貨號(hào) | 產(chǎn)品名稱(chēng) | 規(guī)格 |
90100 | EMS25 Cooling Stage | 臺(tái) |